在超高真空下,利用薄膜組分元素受熱蒸發(fā)所形成的原子或分子數(shù),直接射到沉底表面,形成外延層。
低于材料熔化溫度時,產(chǎn)生蒸汽的過程。
通過腐蝕,將光刻膠上圖形完整整地轉(zhuǎn)移到Si片上。
外延層與沉底的材料相同。