A.不得超出原權(quán)利要求書的記載范圍
B.不得超出原說明書和附圖的記載范圍
C.不得超出原說明書和權(quán)利要求書的范圍
D.不得超出權(quán)利要求書和說明書附圖的范圍

A.申請(qǐng)人可以刪除某個(gè)或者某些必要技術(shù)特征，因?yàn)檫@樣不會(huì)擴(kuò)大原申請(qǐng)的范圍
B.說明書中可以補(bǔ)入原權(quán)利要求書中記載而原說明書中沒有描述過的技術(shù)特征，但是不能擴(kuò)大其內(nèi)容
C.附圖中的結(jié)構(gòu)雖然是明顯可見并有唯一解釋，但是由于未在原說明書以及權(quán)利要求書中提及，因此不允許補(bǔ)入說明書和權(quán)利要求書中
D.為了更詳細(xì)地理解說明書和權(quán)利要求書所記載的技術(shù)方案，允許增加一幅附圖

A.審查員審批之日
B.專利局發(fā)出授權(quán)及辦理登記手續(xù)通知書的發(fā)文日
C.授權(quán)公告日
D.專利證書收到日

A.申請(qǐng)人在收到授予實(shí)用新型專利權(quán)及辦理登記手續(xù)的通知書之日起兩個(gè)月內(nèi)提出
B.原實(shí)用新型專利申請(qǐng)已被駁回，但是尚未生效前
C.原實(shí)用新型專利申請(qǐng)已經(jīng)主動(dòng)撤回
D.原實(shí)用新型專利申請(qǐng)已經(jīng)視為撤回且尚未恢復(fù)

A.實(shí)現(xiàn)核聚變的封閉阱法
B.為實(shí)現(xiàn)核裂變而增加粒子能量的電子對(duì)撞法
C.原子能反應(yīng)堆裝置
D.由原子能反應(yīng)堆裝置制得的一種新的放射性同位素