A．高斯；
B．亨利；
C．法拉；
D．安培
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A．電流：符號(hào)-I，單位-安培；
B．磁導(dǎo)率：符號(hào)-μ，單位-亨利/米；
C．磁通密度：符號(hào)-B，單位-高斯，國(guó)際單位制單位-特斯拉；
D．磁場(chǎng)強(qiáng)度：符號(hào)-H，單位-奧斯特，國(guó)際單位制單位-安/米；
E．以上都對(duì)
A．電場(chǎng)強(qiáng)度；
B．磁感應(yīng)強(qiáng)度；
C．磁場(chǎng)強(qiáng)度；
D．磁通量
A．電場(chǎng)強(qiáng)度；
B．磁感應(yīng)強(qiáng)度；
C．磁場(chǎng)強(qiáng)度；
D．磁通量
A、鐵磁性材料有磁滯現(xiàn)象
B、隨著含碳量增高，矯頑力增大
C、鐵磁性材料的磁導(dǎo)率μ遠(yuǎn)大于1，它是與外磁場(chǎng)變化無(wú)關(guān)的常數(shù)
D、鐵磁性材料比順磁性材料較難達(dá)到飽和狀態(tài)
E、A和B都對(duì)
A．磁導(dǎo)率略小于1的材料；
B．磁導(dǎo)率遠(yuǎn)大于1的材料；
C．磁導(dǎo)率接近于1的材料；
D．磁導(dǎo)率等于1的材料
最新試題
熒光磁粉檢測(cè)時(shí)，磁痕的評(píng)定應(yīng)在暗室或暗處進(jìn)行，暗室或暗處可見(jiàn)光照度應(yīng)不小于20Lx。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：磁粉檢測(cè)時(shí)一般應(yīng)選用A1-60/100型標(biāo)準(zhǔn)試片。
在不退磁的情況下，周向磁化產(chǎn)生的剩磁比縱向磁化產(chǎn)生的剩磁有更大的危害性。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：當(dāng)辯認(rèn)細(xì)小缺陷磁痕時(shí)應(yīng)用2～10倍放大鏡進(jìn)行觀(guān)察。
材料磁導(dǎo)率低（剩磁大）及直流磁化后，退磁磁場(chǎng)換向的次數(shù)（退磁頻率）應(yīng)較多，每次下降的磁場(chǎng)值應(yīng)較小，且每次停留的時(shí)間（周期）要略長(zhǎng)。
磁懸液應(yīng)采用軟管沖淋或浸漬法施加于工件表面。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：大型工件可使用交流電磁軛進(jìn)行局部退磁或采用纏繞電纜線(xiàn)圈分段退磁。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：剩磁應(yīng)不大于0.3mT（240A/m）。
一般說(shuō)來(lái)，進(jìn)行了周向磁化工件的退磁，應(yīng)先進(jìn)行一次縱向磁化。
采用剩磁法時(shí)，磁懸液應(yīng)在通電結(jié)束后再施加，一般通電時(shí)間為2～3s。