JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：直流退磁法是將需退磁工件放入直流磁場(chǎng)中，逐漸減小電流至零。

JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：當(dāng)辯認(rèn)細(xì)小缺陷磁痕時(shí)應(yīng)用2～10倍放大鏡進(jìn)行觀察。

C型靈敏度試片與A型靈敏度試片使用方法相同，只是C型靈敏度試片能用于狹小部位。

標(biāo)準(zhǔn)試塊主要用于檢驗(yàn)磁粉檢測(cè)的系統(tǒng)靈敏度，確定被檢工件的磁化規(guī)范。

材料磁導(dǎo)率低（剩磁大）及直流磁化后，退磁磁場(chǎng)換向的次數(shù)（退磁頻率）應(yīng)較多，每次下降的磁場(chǎng)值應(yīng)較小，且每次停留的時(shí)間（周期）要略長。

采用濕法時(shí)，應(yīng)確認(rèn)整個(gè)檢測(cè)面被磁懸液濕潤后，再施加磁懸液。

干磁粉可采用手動(dòng)或電動(dòng)噴粉器以及其他合適的工具來施加，施加時(shí)磁粉應(yīng)厚些撒在工件表面上。

工件的退磁效果一般可用剩磁檢查儀或磁場(chǎng)強(qiáng)度計(jì)測(cè)定。

相關(guān)顯示是由漏磁場(chǎng)吸附磁粉形成的磁痕顯示。

JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：磁粉檢測(cè)時(shí)一般應(yīng)選用A1-60/100型標(biāo)準(zhǔn)試片。