反應器內(nèi)構(gòu)件主要有哪些？

分散控制系統(tǒng)（DCS）一般由過程輸入/輸出接口單元、過程控制單元CRT操作站、高速數(shù)據(jù)通道四部分組成。

加氫反應器的徑向溫差越大則表明流體分布均勻性越好。

鍋爐系統(tǒng)生產(chǎn)時汽包出現(xiàn)虛假液位主要是由給水量與蒸汽量之間的物料平衡關系破壞所引起的。

壓縮機壓縮比增大會造成（）

原料預熱爐點火前，要采樣做測爆分析合格，采樣的部位是（）

管式轉(zhuǎn)化爐是以輕烴為原料，用蒸汽轉(zhuǎn)化法生產(chǎn)氫氣或合成氨原料的一種加熱爐。其輻射段是原料氣在轉(zhuǎn)化管內(nèi)進行轉(zhuǎn)化的反應部分，管外由燃料供熱；對流段是高溫煙氣的余熱回收部分。

制氫裝置提量、降量的操作原則什么？

鍋爐蒸汽并汽時要求鍋爐出口汽溫度應比管網(wǎng)汽溫低一些，一般可低30～60℃。

為防止加氫反應器氫脆的發(fā)生，裝置停工時冷卻速度不應過快，并且停工過程中應有釋氫的工藝過程。