單項(xiàng)選擇題被測(cè)平面出現(xiàn)彎曲的干涉條紋時(shí)，當(dāng)切線與三條干涉條紋相交，其平面度偏差為（）。
A.0.29微米
B.0.58微米
C.0.72微米
D.0.87微米
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1.單項(xiàng)選擇題干涉光帶為（），表明被測(cè)件的平面度非常高，接近于理想平面，平面度偏差小于0.029微米。
A.直帶
B.同心圓干涉帶
C.橢圓形干涉帶
D.鞍形干涉帶
2.單項(xiàng)選擇題若密封環(huán)的外徑超過250mm，可采用涂色法檢查，在零級(jí)平板上對(duì)研，環(huán)的接觸痕跡必須連續(xù)，不能間斷，接觸連續(xù)面積大于總面積的（）為合格。
A.60%
B.70%
C.80%
D.90%
3.單項(xiàng)選擇題（）被廣泛使用在機(jī)械密封端面檢測(cè)上。
A.光學(xué)平晶
B.激光干涉儀
C.凹透鏡
D.凸透鏡
4.單項(xiàng)選擇題密封端面平面度的檢測(cè)，通常是利用光波的（）來測(cè)量。
A.反射效應(yīng)
B.折射效應(yīng)
C.衍射效應(yīng)
D.干涉效應(yīng)
5.單項(xiàng)選擇題動(dòng)靜環(huán)密封面有兩點(diǎn)或兩點(diǎn)以上高點(diǎn)接觸磨損圖像說明（）。
A.動(dòng)環(huán)未對(duì)中
B.雜質(zhì)進(jìn)入密封面
C.密封面不平直
D.靜環(huán)未對(duì)中
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