燈距是影響曝光速度與勻度的因素。當(dāng)光源一定時(shí)，版面照度與燈距平方成反比，照度均勻度與燈距成正比關(guān)系。

陽圖型PS版防止除臟曝光過度，可減少二次曝光時(shí)間。

矢量圖在縮放時(shí)會產(chǎn)生失真現(xiàn)象。

用修復(fù)工具復(fù)制圖像和使用圖案工具復(fù)制圖像產(chǎn)生的效果一樣。

掃描的圖像不夠清晰，可用銳化濾鏡來進(jìn)行彌補(bǔ)。

套規(guī)線時(shí)可能套得不準(zhǔn)，為了解決這個(gè)問題，我們在套規(guī)線的時(shí)候一定要用放大鏡復(fù)校。

在曬版過程中用到的化學(xué)藥品有的屬于光敏性物質(zhì)，具有光不穩(wěn)定性，有的具有強(qiáng)腐蝕性或劇毒性，而有的則是易燃易爆品，所以必須全面了解這些藥品的基本性能，防止發(fā)生危險(xiǎn)和不必要的事故。

印版空白部位如果有一小塊一小塊輕微吸墨，是曝光過量造成的。

調(diào)整圖像時(shí)，用色階調(diào)整和自動(dòng)色階調(diào)整是一樣的。

RGB模式在轉(zhuǎn)化為CMYK模式之后，才可以進(jìn)行分色輸出。