在曬版過(guò)程中用到的化學(xué)藥品有的屬于光敏性物質(zhì)，具有光不穩(wěn)定性，有的具有強(qiáng)腐蝕性或劇毒性，而有的則是易燃易爆品，所以必須全面了解這些藥品的基本性能，防止發(fā)生危險(xiǎn)和不必要的事故。

燈距是影響曝光速度與勻度的因素。當(dāng)光源一定時(shí)，版面照度與燈距平方成反比，照度均勻度與燈距成正比關(guān)系。

感光版的涂層越厚，它的反射能力越強(qiáng)，那么曬版時(shí)所需的曝光量越小，光滲量和光散射量相應(yīng)減少，將會(huì)造成圖文殘缺或空白部位上臟等故障。

在歷史記錄控制面板中，刪除歷史記錄與撤銷(xiāo)歷史記錄是相同的，歷史記錄被刪除之后也可以恢復(fù)。

鏈接的圖層可以同時(shí)進(jìn)行移動(dòng)、縮放和填充等操作。

采用面光源曬版時(shí)，可通過(guò)縮小燈距和使用分光格將面光源分割成局部點(diǎn)光源等方式。既可提高曝光速度，又可減少散射光和漫射光。

理論上講，感光版的反差系數(shù)較小，原版網(wǎng)點(diǎn)為實(shí)點(diǎn)時(shí)，只要曝光量大于感光版的臨界光能，就能得到良好的網(wǎng)點(diǎn)再現(xiàn)效果，曝光的寬容度就大。

網(wǎng)點(diǎn)虛暈度是指網(wǎng)點(diǎn)邊緣區(qū)域密度過(guò)渡的快慢程度。過(guò)渡快的網(wǎng)點(diǎn)，其虛邊較寬，清晰度好，曬版時(shí)網(wǎng)點(diǎn)的還原再現(xiàn)性好。

翻轉(zhuǎn)型曬版機(jī)又可稱(chēng)為雙面曬版機(jī)，它的裝版準(zhǔn)備和曝光可同時(shí)交替運(yùn)行，工作效率高，封閉遮光性能好。

印版空白部位如果有一小塊一小塊輕微吸墨，是曝光過(guò)量造成的。