被檢光學(xué)表面與其參考光學(xué)表面產(chǎn)生的干涉條紋的不規(guī)則程度。

被檢光學(xué)表面與其參考光學(xué)表面曲率半徑有偏差時所產(chǎn)生的干涉圈數(shù)。

學(xué)系統(tǒng)的一部分，通過其移動，能配合系統(tǒng)物面位置改變，保持光學(xué)系統(tǒng)成像在原位置上。

使物體在長寬兩個方向上按不同的比例成像的光學(xué)系統(tǒng)。