A.藻酸鉀
B.藻酸鈉
C.硅橡膠
D.印模膏
E.印模石膏
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.向近中傾斜
B.向遠(yuǎn)中傾斜
C.向左傾斜
D.向右傾斜
E.不傾斜
A.印模材吸水收縮,失水膨脹,體積不穩(wěn)定
B.印模材吸水膨脹,失水收縮,體積不穩(wěn)定
C.時(shí)間過(guò)長(zhǎng),印模材變硬,不易脫模
D.石膏凝固時(shí)間長(zhǎng)
E.以上均不正確
A.與牙弓形態(tài)盡量協(xié)調(diào)一致
B.上頜蓋過(guò)上頜結(jié)節(jié)和顫動(dòng)線
C.與牙弓內(nèi)外側(cè)應(yīng)有3一4mm間隙
D.翼緣不超過(guò)粘膜皺襞
E.如與內(nèi)口弓條件相差太遠(yuǎn),應(yīng)制作個(gè)別托盤(pán)
A.方向
B.角度
C.部位
D.方向和角度
E.方向和部位
A.輕拉唇頰部,在上頜向前向下,下頜向前向上
B.輕拉唇頰部,在上頜向后向下,下頜向后向上
C.輕拉唇頰部,在上頜向前向上,下頜向前向下
D.輕拉唇頰部,在上頜向后向上,下頜向后向下
E.囑患者輕輕活動(dòng)唇頰部,并作吞咽、伸舌等動(dòng)作
最新試題
制作整鑄支架鑄造時(shí)的熱源最常用的是()
屬于直接固位體的是()
在鑄造支架蠟型制作中后腭桿的中份厚度一般為()
桿狀卡環(huán)最常用的一種形式彈性好,常用于遠(yuǎn)中游離端缺失的可摘局部義齒的卡環(huán)為()
基托的伸展范圍應(yīng)根據(jù)()來(lái)決定。
在鑄造支架蠟型制作中后腭桿的縱切面形態(tài)應(yīng)為()
屬于間接固位體的形式的是()
下面對(duì)可摘局部義齒卡環(huán)的描述,正確的是()
彎制支架時(shí),錯(cuò)誤的觀點(diǎn)是()
以下哪一項(xiàng)是彈性仿生義齒的適應(yīng)癥()