A.克里斯坦森現(xiàn)象出現(xiàn)于髁道斜度呈負度數(shù)時
B.克里斯坦森現(xiàn)象是確定側(cè)向髁導(dǎo)斜度的基礎(chǔ)
C.克里斯坦森現(xiàn)象出現(xiàn)在后牙區(qū)、呈前小后大的間隙
D.克里斯坦森現(xiàn)象出現(xiàn)在后牙區(qū)、呈前大后小的間隙
E.由于有克里斯坦森現(xiàn)象、所以可以取前伸蠟記錄
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A.容易形成平衡
B.可以不確定頜位關(guān)系
C.頜運動中障礙少
D.可以減少選磨
E.患者可以調(diào)整頜位關(guān)系
A.近遠中徑長度
B.頰舌徑寬度
C.牙尖高度
D.頜間距離
E.牙齒質(zhì)地
A.人工牙的生產(chǎn)廠家
B.人工牙的顏色
C.人工牙的形態(tài)
D.人工牙的大小
E.人工牙的質(zhì)地
A.上頜后牙頰面加蠟雕牙
B.下頜后牙頰面加蠟雕牙
C.上頜后牙腭側(cè)加蠟雕牙
D.下頜后牙舌側(cè)加蠟雕牙
E.將下頜后牙排列在牙嵴頂上,上頜后牙略排向腭側(cè)
A.選用較上前牙大一型號的下前牙
B.選用較上前牙小一型號的下前牙
C.增加下前牙的牙數(shù)
D.減小下前牙的牙數(shù)
E.選用較下前牙小一型號的上前牙
A.排牙時適當增大橫曲線
B.排牙時適當減小橫曲線
C.排牙時適當增大補償曲線
D.排牙時適當減小補償曲線
E.減小上后牙牙尖與堤平面的距離及牙的傾斜度
A.當在架上模擬下頜做側(cè)方運動時,要求全口義齒的雙側(cè)后牙均保持接觸
B.當在架上模擬下頜做側(cè)方運動時,只要求全口義齒的工作側(cè)后牙保持接觸
C.工作側(cè)上后牙頰舌尖與相對的下后牙頰舌尖呈尖對尖接觸
D.非工作側(cè)上后牙舌尖與相對的下后牙的頰尖接觸
E.人工后牙排列成適當?shù)目v曲線
A.正中是一種動態(tài)的牙接觸關(guān)系
B.正中是一種靜態(tài)的牙接觸關(guān)系
C.正中位時,全口義齒的人工后牙達最大面積接觸
D.上頜第一磨牙的遠中頰尖正對下頜第一磨牙近中頰溝
E.上頜第一磨牙的近中頰尖正對下頜第一磨牙近中頰溝
A.人工牙排列偏唇側(cè)或偏舌側(cè)
B.基托邊緣過長
C.患者系帶過長
D.基托磨光面形態(tài)差
E.基托邊緣過厚
A.正中平衡
B.單側(cè)平衡
C.雙向平衡
D.前伸平衡
E.側(cè)方平衡
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