猝滅劑

在CMOS工藝中，最為昂貴的步驟是：（）

內(nèi)光電效應(yīng)

敏化劑

TEM觀測與SEM相同，對樣品厚度沒有要求。

光電導(dǎo)效應(yīng)

激活劑

所謂n溝道MOS管指的是它的基底是n型半導(dǎo)體。

半導(dǎo)體中的價(jià)帶空穴電流其實(shí)就是導(dǎo)帶電子電流的一種等價(jià)說法。

光刻技術(shù)中的反刻工藝，通常應(yīng)用于（）的情況。