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離子注入能夠重復控制雜質的濃度和深度,因而在幾乎所有應用中都優(yōu)于擴散。
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離子注入的缺點之一是注入設備的復雜性。
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離子注入物質必須以帶電粒子束或離子束的形式存在。
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