問答題光刻工藝的主要流程有哪幾步?什么是光刻工藝的分辨率?從物理角度看,限制分辨率的因素是什么?最常用的曝光光源是什么?
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最新試題
由硅片生產(chǎn)的半導體產(chǎn)品,又被稱為()。
題型:多項選擇題
由于襯底材料的緣故會自動產(chǎn)生電容,這種電容稱為()。
題型:單項選擇題
什么是MOS器件的體效應?
題型:問答題
BiCMOS技術就是將()和()的優(yōu)良性能集中在同一塊集成電路器件中。BiCMOS綜告了CMOS結構的低功耗、高集成度和TTL或ECL器件結構的高電流驅(qū)動能力。
題型:多項選擇題
設計一個CMOS差分放大器電路,寫出其對應的SPICE描述語句并作差模電流-電壓特性分析。
題型:問答題
試用電導率為102/(Ω·cm),厚1μm的材料設計1kΩ的電阻,設電阻寬1μm,求其長。
題型:問答題
晶體管的名字取自于()和()兩詞。
題型:多項選擇題
從天然硅中獲得達到生產(chǎn)半導體器件所需純度的SGS要經(jīng)過()等步驟。
題型:多項選擇題
規(guī)定版圖幾何設計規(guī)則的意義是什么?
題型:問答題
MOS場效應管(MOSFET)在20世紀70年代得到了廣泛的接受,從那時起到現(xiàn)在一直是集成電路的主流晶體管。MOSFET有兩類()和()。每種類型可由各自器件的多數(shù)載流子來區(qū)別。
題型:多項選擇題