在光線作用下，能使物體產(chǎn)生一定方向的電動勢的現(xiàn)象稱（）

懸浮區(qū)熔的優(yōu)點不包括（）

影響單晶內(nèi)雜質(zhì)數(shù)量及分布的主要因素是（）①原材料中雜質(zhì)的種類和含量；②雜質(zhì)的分凝效應(yīng)；③雜質(zhì)的蒸發(fā)效應(yīng)；④生長過程中坩堝或系統(tǒng)內(nèi)雜質(zhì)的沾污；⑤加入雜質(zhì)量；

屬于晶體缺陷中面缺陷的是（）

只涉及到大約一個原子大小范圍的晶格缺陷是（）。 

PN結(jié)的基本特性是（）

可用作硅片的研磨材料是（）

如在半導(dǎo)體的禁帶中有一個深雜質(zhì)能級位于禁帶中央，則它對電子的俘獲率（）空穴的俘獲率。

直拉法生長單晶硅拉晶過程有幾個主要階段？（）

如果雜質(zhì)既有施主的作用又有受主的作用，則這種雜質(zhì)稱為（）。