單項選擇題砂漿回彈法在每個彈擊點上,應使用回彈儀連續(xù)彈擊(),記錄最后一次回彈值。
A.2次
B.3次
C.4次
D.5次
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1.單項選擇題砂漿回彈法每個測位應均勻布置()彈擊點,選定彈擊點應避開磚的邊緣、灰縫中的氣孔。
A.12個
B.15個
C.16個
D.18個
2.單項選擇題砂漿回彈法彈擊點處應磨掉表面砂漿,深度應為()。
A.3-8mm
B.5-10mm
C.8-15mm
D.10-15mm
3.單項選擇題位雙剪法檢測時,下列哪個部位可以布設測點()。
A.門、窗洞口側邊120mm范圍內
B.后補的施工洞口和經修補的砌體
C.完整墻體中部
D.獨立磚柱
4.單項選擇題砂漿回彈法測試碳化深度時應用濃度為()的酚酞酒精溶液。
A.1%-2%
B.2%-3%
C.3%-4%
D.4%-5%
5.單項選擇題砂漿片試件的剪切測試,應對試件勻速連續(xù)施加荷載,加荷速度不宜大于(),直至試件破壞。
A.8N/s
B.10N/s
C.15N/s
D.20N/s
最新試題
一塊半導體壽命τ=15µs,光照在材料中會產生非平衡載流子,光照突然停止30µs后,其中非平衡載流子將衰減到原來的()。
題型:單項選擇題
把磷化鎵在氮氣氛中退火,會有氮取代部分的磷,這會在磷化鎵中出現(xiàn)()。
題型:單項選擇題
在通常情況下,GaN呈()型結構。
題型:單項選擇題
對于大注入下的直接復合,非平衡載流子的壽命不再是個常數(shù),它與()。
題型:單項選擇題
硅片拋光在原理上不可分為()
題型:單項選擇題
如果雜質既有施主的作用又有受主的作用,則這種雜質稱為()。
題型:單項選擇題
只涉及到大約一個原子大小范圍的晶格缺陷是()。
題型:單項選擇題
最有效的復合中心能級位置在Ei附近;最有利陷阱作用的能級位置在()附近,常見的是少子陷阱。
題型:單項選擇題
CZ法的主要流程工藝順序正確的是()
題型:單項選擇題
改良西門子法的顯著特點不包括()
題型:單項選擇題