A、單塊
B、雙塊
C、半塊
D、整體
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A、混凝土和砂漿配合比通知單
B、混凝土和砂漿試件抗壓強度試驗報告單
C、各檢驗批的主控項目、一般項目的驗收記錄
D、施工記錄
E、施工圖紙
A、360mm
B、370mm
C、480mm
D、490mm
A、每級荷載可取預估破壞荷載的10%
B、應在1min~1.5mim內(nèi)均勻加完,然后恒載2min
C、加荷至預估破壞荷載的90%后,應按原定加荷速度連續(xù)加荷,直至槽間砌體破壞
D、加荷至預估破壞荷載的80%后,應按原定加荷速度連續(xù)加荷,直至槽間砌體破壞
A、一個
B、二個
C、若干個
D、三個
E、以上都不對
A、料石檢查產(chǎn)品質(zhì)量證明書
B、石材試驗報告
C、砂漿試塊試驗報告
D、產(chǎn)品使用說明書
最新試題
對于大注入下的直接復合,非平衡載流子的壽命不再是個常數(shù),它與()。
對于同時存在一種施主雜質(zhì)和一種受主雜質(zhì)的均勻摻雜的非簡并半導體,在溫度足夠高、ni>>/ND-NA/時,半導體具有()半導體的導電特性。
在通常情況下,GaN呈()型結(jié)構(gòu)。
一塊半導體壽命τ=15µs,光照在材料中會產(chǎn)生非平衡載流子,光照突然停止30µs后,其中非平衡載流子將衰減到原來的()。
CZ法的主要流程工藝順序正確的是()
下列哪一個遷移率的測量方法適合于低阻材料少子遷移率測量()
與半導體相比較,絕緣體的價帶電子激發(fā)到導帶所需的能量()
下列哪個不是單晶常用的晶向()
影響單晶內(nèi)雜質(zhì)數(shù)量及分布的主要因素是()①原材料中雜質(zhì)的種類和含量;②雜質(zhì)的分凝效應;③雜質(zhì)的蒸發(fā)效應;④生長過程中坩堝或系統(tǒng)內(nèi)雜質(zhì)的沾污;⑤加入雜質(zhì)量;
把磷化鎵在氮氣氛中退火,會有氮取代部分的磷,這會在磷化鎵中出現(xiàn)()。