平版曬版中，主要應用的光敏物質是光分解型光敏物和光聚合型光敏物。

陽圖曬版時，若網點黑度較低，其網點部位也會透過一定量的光能而非完全不透光，使本該不曝光的部位也產生了部分曝光，導致印版的耐印力降低。

印版應具有良好的表面平整性，特別是在有效工作面內更應具有如此特征。

曬版時，使用的感光物盡管是光敏物，在光照下能發(fā)生化學反應，有時卻能在亮室下而不必在暗室下操作。

翻轉型曬版機又可稱為雙面曬版機，它的裝版準備和曝光可同時交替運行，工作效率高，封閉遮光性能好。

對圖層蒙版進行濾鏡操作，和對圖層進行濾鏡操作，其效果是一樣的。

在曬版過程中用到的化學藥品有的屬于光敏性物質，具有光不穩(wěn)定性，有的具有強腐蝕性或劇毒性，而有的則是易燃易爆品，所以必須全面了解這些藥品的基本性能，防止發(fā)生危險和不必要的事故。

曬版過程基本上是一個物理加工過程，它涉及到一定的光物理知識、表面物理性能等物理基礎知識。

網點是所有印刷工藝中構成圖文的最基本的單位。

陽圖型PS版防止除臟曝光過度，可減少二次曝光時間。