曬版過程基本上是一個(gè)物理加工過程，它涉及到一定的光物理知識(shí)、表面物理性能等物理基礎(chǔ)知識(shí)。

采用面光源曬版時(shí)，可通過縮小燈距和使用分光格將面光源分割成局部點(diǎn)光源等方式。既可提高曝光速度，又可減少散射光和漫射光。

掃描的圖像不夠清晰，可用銳化濾鏡來進(jìn)行彌補(bǔ)。

用修復(fù)工具復(fù)制圖像和使用圖案工具復(fù)制圖像產(chǎn)生的效果一樣。

感光版的涂層越厚，它的反射能力越強(qiáng)，那么曬版時(shí)所需的曝光量越小，光滲量和光散射量相應(yīng)減少，將會(huì)造成圖文殘缺或空白部位上臟等故障。

鏈接的圖層可以同時(shí)進(jìn)行移動(dòng)、縮放和填充等操作。

在曬版過程中用到的化學(xué)藥品有的屬于光敏性物質(zhì)，具有光不穩(wěn)定性，有的具有強(qiáng)腐蝕性或劇毒性，而有的則是易燃易爆品，所以必須全面了解這些藥品的基本性能，防止發(fā)生危險(xiǎn)和不必要的事故。

網(wǎng)點(diǎn)虛暈度是指網(wǎng)點(diǎn)邊緣區(qū)域密度過渡的快慢程度。過渡快的網(wǎng)點(diǎn)，其虛邊較寬，清晰度好，曬版時(shí)網(wǎng)點(diǎn)的還原再現(xiàn)性好。

理論上講，感光版的反差系數(shù)較小，原版網(wǎng)點(diǎn)為實(shí)點(diǎn)時(shí)，只要曝光量大于感光版的臨界光能，就能得到良好的網(wǎng)點(diǎn)再現(xiàn)效果，曝光的寬容度就大。

翻轉(zhuǎn)型曬版機(jī)又可稱為雙面曬版機(jī)，它的裝版準(zhǔn)備和曝光可同時(shí)交替運(yùn)行，工作效率高，封閉遮光性能好。