A.上下頜牙接觸面積過(guò)小
B.人工牙面解剖形態(tài)差
C.垂直距離過(guò)低
D.義齒固位穩(wěn)定性差
E.力過(guò)大
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A.上頜義齒基托后緣過(guò)長(zhǎng)
B.上頜義齒基托后緣過(guò)厚
C.上頜義齒基托后緣與黏膜貼合緊密
D.前伸早接觸
E.患者更年期
A.平面的前部與瞳孔連線平行
B.平面高于舌背
C.平面平行于牙槽嵴
D.平面兩側(cè)等高
E.平面遠(yuǎn)中延長(zhǎng)線等于磨牙后墊1/2的高度
A.由醫(yī)師牽拉患者唇頰部形成
B.患者做自主運(yùn)動(dòng)形成
C.采用硅橡膠印模材料
D.印模范圍不超過(guò)附著黏膜區(qū)
E.患者不能做吞咽運(yùn)動(dòng)
A.與牙槽嵴黏膜接觸的部分
B.與義齒穩(wěn)定,固位無(wú)關(guān)
C.與義齒自潔無(wú)關(guān)
D.要求呈凹面形
E.要求呈凸面形
A.第一前磨牙
B.第二前磨牙
C.第一磨牙
D.第二磨牙
E.第二前磨牙和第一磨牙區(qū)
A.兩口角的距離
B.中線
C.唇高線
D.唇低線
E.鼻翼外緣向下延長(zhǎng)的垂線
A.上頜舌尖
B.該舌尖所對(duì)的邊緣嵴或中央窩
C.下頜舌尖
D.下頜頰尖
E.以上均可
A.上頜后緣止于腭小凹后2mm
B.下頜后緣止于磨牙后墊前緣
C.唇頰側(cè)止于黏膜反折線處
D.唇頰舌系帶處應(yīng)讓開
E.下頜舌側(cè)止于口底黏膜與牙槽舌側(cè)黏膜反折線處
A.主承托區(qū)
B.副承托區(qū)
C.邊緣封閉區(qū)
D.緩沖區(qū)
E.后提區(qū)
A.在腭小凹前2mm處
B.后緣止于腭小凹處
C.在腭小凹后2mm處
D.在腭小凹后4mm處
E.以上均不正確
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