A.MTF
B.NEQ
C.DQE
D.SNR
E.ROC
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大腦外側(cè)溝分隔前方額葉及后方的顳葉，小腦在斷面后方。中腦位居斷面中央，其后部左右稍隆起者為上丘，中腦水管形似針孔樣位于頂蓋前方，黑質(zhì)顏色較深位于前外，紅核位于其后內(nèi)。
本層面是經(jīng)下列哪項(xiàng)的層面（）
A.經(jīng)胼胝體頭部
B.經(jīng)大腦半球下部
C.經(jīng)半卵圓中心
D.經(jīng)大腦半球中部
E.經(jīng)前連合
A.尾狀核
B.屏狀核
C.殼
D.島葉
E.海馬
A.額上回
B.中央溝
C.大腦縱裂
D.前連合
E.上矢狀竇
X線管陽(yáng)極接受電子撞擊產(chǎn)生X線，由陽(yáng)極頭、陽(yáng)極帽、陽(yáng)極柄構(gòu)成。
能用于制造固定陽(yáng)極X線管靶面的材料是（）
A.Si
B.Pb
C.W
D.Fe
E.Mn
A.靶面
B.燈絲
C.陽(yáng)極帽
D.陽(yáng)極頭
E.陽(yáng)極柄
顱腔內(nèi)可見左、右大腦半球頂部的斷面，斷面外側(cè)由前向后有額上回、中央前溝、中央前回、中央溝、中央后回和頂上小葉。
該層面是經(jīng)下列哪項(xiàng)的層面（）
A.經(jīng)大腦半球頂部
B.經(jīng)大腦半球中部
C.經(jīng)半卵圓中心
D.經(jīng)大腦半球下部
E.經(jīng)胼胝體頭部
A.額上回
B.中央溝
C.大腦縱裂
D.大腦鐮
E.上矢狀竇
頭部橫斷層常用基線有眥耳線、Reid基線、連合間線等。
顱腦橫斷層描述常用基線是（）
A.眥耳線
B.Reid基線
C.連合間線
D.下眶耳線
E.人類學(xué)基線
A.Reid基線
B.眥耳線
C.連合間線
D.AC-PC線
E.聽眥線
A.連合間線
B.眥耳線
C.Reid基線
D.聽眥線
E.AC-PC線
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