A.電子
B.溴離子
C.銀離子
D.顯影中心
E.感光中心
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A.晶體位錯(cuò)
B.晶體點(diǎn)陣缺陷
C.光量子被鹵化銀吸收
D.自發(fā)還原
E.晶體物理結(jié)構(gòu)的不完整性
A.熒光體分為單純型和賦活型
B.稀土增感屏的熒光體是單純型
C.賦活型由母體、賦活劑和融劑組成
D.母體是熒光體具有某種特性的基礎(chǔ)
E.融劑有增加發(fā)光效率的作用
A.包括基層
B.包括保護(hù)層
C.包括乳劑層
D.包括熒光體層
E.包括反射層或吸收層
A.熒光體顆粒
B.熒光體涂布厚度
C.保護(hù)層厚度
D.反射層的反射效率
E.顯影液的濃度
A.不應(yīng)存放在高溫、潮濕及過分干燥的地方
B.防止水或藥液濺污
C.膠片應(yīng)隨裝隨用
D.暗盒要直立放置
E.應(yīng)定期用乙醇清潔劑擦去污劑，擦去污劑后強(qiáng)光曬干
A.熒光體層
B.保護(hù)層
C.片基層
D.反射層
E.基層
A.提高發(fā)光效率
B.提高清晰度
C.改善顆粒度
D.控制量子斑點(diǎn)
E.提高對(duì)比度
A.基層
B.感光乳劑層
C.保護(hù)層
D.反射層
E.吸收層
A.是描繪曝光量與所產(chǎn)生密度之間關(guān)系的一條曲線
B.曲線可以表示出感光材料的感光特性
C.特性曲線也稱H-D曲線
D.曲線的橫坐標(biāo)為曝光量，縱坐標(biāo)為密度
E.曲線的橫坐標(biāo)為密度，縱坐標(biāo)為曝光量
A.清晰度
B.分辨率
C.顆粒度
D.乳劑熔點(diǎn)
E.調(diào)制傳遞函數(shù)
最新試題
下列敘述錯(cuò)誤的是（）
X線膠片特性曲線是描繪曝光量與所產(chǎn)生的密度之間關(guān)系的一條曲線，由于這條曲線可以表示出感光材料的感光特性，所以稱之為“特性曲線”。特性曲線的橫坐標(biāo)為曝光量，以對(duì)數(shù)值lgE表示；縱坐標(biāo)為密度，以D表示。特性曲線由足部、直線部、肩部和反轉(zhuǎn)部組成。足部密度的上升與曝光量不成正比，曝光量增加逐漸很多，密度只有較小的增加。直線部密度與曝光量的增加成正比，密度差保持一定，此時(shí)曲線沿一定的斜率直線上升。肩部密度隨曝光量的增加而增加，但不成正比。反轉(zhuǎn)部隨曝光量的增加密度反而下降，影像密度呈現(xiàn)逆轉(zhuǎn)。特性曲線可提供感光材料的本底灰霧（Dmin）、感光度（S）、對(duì)比度（γ）、最大密度（Dmax）、寬容度（L）等參數(shù)，以表示感光材料的感光性能。關(guān)于膠片特性曲線的說法，錯(cuò)誤的是（）
沖洗技術(shù)沒有實(shí)際效果的管理方法是（）
決定自動(dòng)沖洗機(jī)顯影時(shí)間的是（）
水洗的主要目的是（）
X線膠片特性曲線是描繪曝光量與所產(chǎn)生的密度之間關(guān)系的一條曲線，由于這條曲線可以表示出感光材料的感光特性，所以稱之為“特性曲線”。特性曲線的橫坐標(biāo)為曝光量，以對(duì)數(shù)值lgE表示；縱坐標(biāo)為密度，以D表示。特性曲線由足部、直線部、肩部和反轉(zhuǎn)部組成。足部密度的上升與曝光量不成正比，曝光量增加逐漸很多，密度只有較小的增加。直線部密度與曝光量的增加成正比，密度差保持一定，此時(shí)曲線沿一定的斜率直線上升。肩部密度隨曝光量的增加而增加，但不成正比。反轉(zhuǎn)部隨曝光量的增加密度反而下降，影像密度呈現(xiàn)逆轉(zhuǎn)。特性曲線可提供感光材料的本底灰霧（Dmin）、感光度（S）、對(duì)比度（γ）、最大密度（Dmax）、寬容度（L）等參數(shù)，以表示感光材料的感光性能。如果操作人員經(jīng)驗(yàn)豐富，最好選用何種膠片（）
關(guān)于干式激光膠片敘述錯(cuò)誤的是（）
如果要求有較大的寬容度，應(yīng)選用何種膠片（）
自動(dòng)沖洗機(jī)顯影溫度的設(shè)定范圍，適宜的是（）
促進(jìn)劑是（）常用定影劑是（）常用的顯影劑是（）顯定影液共用的保護(hù)劑是（）顯影液中的防灰劑是（）