A.3%碳酸氫鈉溶液
B.30%碳酸氫鈉溶液
C.3%枸櫞酸鈉溶液
D.30%枸櫞酸鈉溶液
E.3%氫氟酸溶液
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A.濕砂期末期
B.稀糊期末期
C.粘絲期末期
D.面團(tuán)期末期
E.橡膠期
A.第一類第一亞類
B.第二類第一亞類
C.第二類第二亞類
D.第三類第二亞類
E.第四類第二亞類
A.采用分散力設(shè)計(jì),減輕基牙和支持組織的負(fù)荷
B.游離缺失的病例,必須采用雙側(cè)設(shè)計(jì)
C.盡量少磨除牙體組織
D.對(duì)孤立牙和錯(cuò)位牙應(yīng)采取保護(hù)性措施
E.設(shè)計(jì)合理的卡環(huán)類型,避免使用過(guò)多的卡環(huán)
A.導(dǎo)線就是牙冠的外形高點(diǎn)線
B.導(dǎo)線就是牙冠最突點(diǎn)的連線
C.導(dǎo)線就是牙冠的最大周圍線
D.導(dǎo)線是指在確定共同就位道后,分析桿沿基牙的軸面轉(zhuǎn)動(dòng)一周,畫(huà)出分析桿與基牙軸面最突點(diǎn)的連線
E.導(dǎo)線是指牙齒的長(zhǎng)軸與水平面垂直,用垂直桿圍繞牙冠轉(zhuǎn)動(dòng)一周,垂直桿與牙冠軸面最突點(diǎn)接觸的連線
A.基托的唇頰側(cè)邊緣伸展至黏膜轉(zhuǎn)折處,不妨礙唇頰的正常活動(dòng)
B.下頜基托的舌側(cè)邊緣伸展至舌側(cè)黏膜轉(zhuǎn)折處,不妨礙舌的正?;顒?dòng)
C.上頜基托的后緣伸展至翼上頜切跡,遠(yuǎn)中頰側(cè)蓋過(guò)上頜結(jié)節(jié)
D.上頜基托后緣中份最大可伸展至硬軟腭交界處的軟腭上
E.下頜基托后緣應(yīng)覆蓋全部磨牙后墊
最新試題
不適合用鑄造金屬舌面板的情況為()。
Kennedy分類法的依據(jù)是()。
下列哪項(xiàng)不是造成全口義齒咬頰或舌的原因()。
為消除可摘局部義齒不穩(wěn)定,錯(cuò)誤的方法是()。
腭側(cè)基托應(yīng)設(shè)計(jì)到()。
下列哪項(xiàng)不屬于義齒的不穩(wěn)定因素()。
下列哪項(xiàng)不是影響全口義齒的穩(wěn)定因素()。
暫時(shí)冠的目的不是()。
頜位關(guān)系記錄是用來(lái)記錄()。
鑄造側(cè)腭桿與余留牙的關(guān)系應(yīng)為()。