A.幫助患者下頜后退
B.確定正中關(guān)系位
C.確定垂直距離
D.了解下頜運(yùn)動(dòng)情況
E.重復(fù)測(cè)定的客觀依據(jù)
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A.0.5~1mm
B.1~2mm
C.2~3mm
D.0.5mm以下
E.3mm以上
A.表面覆蓋的黏膜薄
B.位于口腔前庭
C.顴突的位置可接近牙槽嵴頂
D.為上頜第一前磨牙根尖部的骨突起
E.與之相應(yīng)的基托組織面應(yīng)做緩沖
A.調(diào)磨降低上后牙牙尖高度
B.調(diào)磨降低下后牙牙尖高度
C.調(diào)磨上后牙牙尖近中斜面或(和)下后牙牙尖遠(yuǎn)中斜面
D.調(diào)磨上后牙牙尖遠(yuǎn)中斜面或(和)下后牙牙尖近中斜面
E.用自凝膠恢復(fù)上前牙切緣高度
A.1.0~1.2mm
B.1.2~1.5mm
C.1.5~2.0mm
D.2.2mm
E.2.2~2.5mm
A.鞍基受載下沉后,Ⅰ型桿離開基牙牙面,不產(chǎn)生對(duì)基牙的扭力
B.Ⅰ型桿與基牙接觸面積小,對(duì)基牙損傷小
C.近中支托對(duì)基牙的扭力小
D.鞍基受載下沉后,鄰面板隨之下沉,不產(chǎn)生對(duì)基牙的扭力
E.舌側(cè)對(duì)抗臂與Ⅰ型桿有較強(qiáng)的交互作用,對(duì)基牙扭力小
最新試題
雙側(cè)上頜結(jié)節(jié)明顯突向頰側(cè),倒凹大者,全口義齒修復(fù)時(shí)要()
頜位關(guān)系記錄是用來記錄()。
在黏固前可采取何種預(yù)防措施()。
Kennedy分類法的依據(jù)是()。
從口內(nèi)取出可摘局部義齒印橫時(shí),一般先()。
對(duì)于基托磨光面的要求,下列哪項(xiàng)是錯(cuò)誤的()。
全口義齒排牙時(shí),關(guān)于上頜第一磨牙牙尖與平面的關(guān)系,說法正確的是()。
雙側(cè)磨牙游離缺失的可摘局部義齒,末端基牙常用的卡環(huán)是()。
下頜全口義齒基托邊緣不宜伸展的區(qū)域是()。
如余留牙舌側(cè)嚴(yán)重傾斜,應(yīng)選用的大連接體為()。