A.邊緣伸展是否恰當(dāng)
B.后牙排列在牙槽嵴頂連線
C.兩側(cè)對稱
D.上、下頜前牙與后牙均有緊密接觸
E.有前伸牙合和側(cè)方牙合平衡
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A.蓋過磨牙后墊
B.蓋過磨牙后墊的2/3
C.蓋過磨牙后墊的1/2~2/3
D.蓋過磨牙后墊的前1/3~1/2
E.暴露磨牙后墊
A.外溢道消失
B.對頜牙的牙尖過于高陡
C.兩牙邊緣嵴高度不一致
D.牙間乳頭退縮
E.齲壞
A.銀汞合金充填體有懸突
B.牙齒排列不齊
C.喜甜食
D.冠修復(fù)體不良
E.大量牙石
A.10%~15%過氧化脲
B.10%~15%過氧化氫
C.20%~30%過氧化脲
D.30%過氧化氫
E.A和D
A.濕粘結(jié)技術(shù)是指在自酸蝕粘結(jié)技術(shù)中的操作技術(shù)
B.濕粘結(jié)技術(shù)主要是指牙釉質(zhì)全酸蝕技術(shù)
C.濕粘結(jié)技術(shù)就是要求酸蝕后的牙本質(zhì)表面必須保持濕潤
D.濕粘結(jié)技術(shù)就是要求酸蝕后的牙釉質(zhì)表面必須保持濕潤
E.濕粘結(jié)技術(shù)主要應(yīng)用于第五、第六代粘結(jié)劑中
最新試題
冠內(nèi)固位體的基牙牙冠齦距大于()。
可摘局部義齒的固位體對基牙產(chǎn)生固位作用的力是()。
磁性附著體屬于()。
磁性附著體戴用后的注意事項,不包括()。
選擇無牙頜托盤的錯誤方法是()。
與圓錐型套筒冠固位力關(guān)系不密切的是()。
冠外附著體的基牙牙冠齦距大于()。
附著體義齒的組成部分不包括()。
可摘局部義齒游離端受力時,主要表現(xiàn)是()。
光接觸修復(fù)體表面,當(dāng)光的入射角為多少度時,光的反射量最大?()