單項(xiàng)選擇題記存研究模型的修整,基底部分的高約為解剖部分的()

A.1/3~1/2
B.1/4~1/2
C.2/3~3/4
D.1/5~1/3
E.1/2~3/4


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1.單項(xiàng)選擇題模型灌注后適宜的脫模時間為()

A.1~2小時
B.2~4小時
C.6~8小時
D.12小時
E.24小時

2.單項(xiàng)選擇題模型底座厚薄適宜,一般腭頂和口底,的最薄處應(yīng)保持()

A.3~5mm
B.1~2mm
C.5~10mm
D.10~20mm
E.30mm

3.單項(xiàng)選擇題遮色瓷厚度應(yīng)掌握在()

A.1~2mm
B.1~0.2mm
C.2~0.3mm
D.2~3mm
E.越薄越好

4.單項(xiàng)選擇題磨除貴金屬基底的金屬與瓷結(jié)合面氧化物,常用()

A.碳化硅
B.鎢鋼鉆
C.橡皮輪
D.金鋼砂針
E.金鋼石鉆針

5.單項(xiàng)選擇題應(yīng)用回切法制作PFM金屬基底蠟型時,回切厚度下列說法正確的是()

A.切緣2.0~2.5mm,唇側(cè)1.5mm,舌側(cè)1.0mm
B.切緣1.5~2.0mm,唇側(cè)1.0mm,舌側(cè)0.5~1.0mm
C.切緣2.0~2.5mm,唇側(cè)1.0mm,舌側(cè)0.5~1.0mm
D.切緣1.5~2.0mm,唇側(cè)1.5mm,舌側(cè)0~1.0mm
E.切緣1.5~2.0mm,唇側(cè)1.0mm,舌側(cè)1.5mm