A.唇頰側(cè)止于唇頰黏膜與牙槽嵴唇頰黏膜的反折線,讓開(kāi)唇頰系帶
B.下頜舌側(cè)止于口底黏膜與牙槽嵴舌側(cè)黏膜的反折線,讓開(kāi)舌系帶
C.上頜后緣止于腭小凹兩側(cè)翼上頜切跡的連線
D.下頜后緣止于磨牙后墊的1/2~2/3
E.以上全不正確
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A.消除正中早接觸
B.消除側(cè)向干擾
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E.達(dá)到平衡
關(guān)于平面說(shuō)法,錯(cuò)誤的是()
A.平面的前部位于上唇下緣下方2mm處
B.平面在前方應(yīng)與瞳孔連線平行
C.平面在側(cè)方應(yīng)與鼻翼耳屏線平行
D.平面應(yīng)與地面平行
E.下頜平面位于舌側(cè)外緣最突出處
全口義齒排牙完成后,平衡調(diào)整前應(yīng)具備的條件是()
A.正中廣泛緊密接觸
B.前牙排成淺覆
C.后牙具有合適的補(bǔ)償曲線
D.后牙具有合適的橫曲線
E.以上均是
最新試題
位于上頜硬區(qū)前部的連接桿是()
位于上頜硬區(qū)后部的連接桿是()
活動(dòng)義齒基托蠟型腭側(cè)邊緣()
PFM切端瓷層厚度要求有()
屬于固定義齒根內(nèi)固位體的是()
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缺失,應(yīng)用哪種連接桿()