A.1.5~2.0mm
B.2.0~4.0mm
C.4~6mm
D.6~8mm
E.10mm以上
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.基牙牙冠的外形高點(diǎn)線
B.基牙向缺隙方向傾斜,頰、舌面的主要倒凹區(qū)靠近缺隙
C.口腔模型上硬、軟組織的倒凹區(qū)和非倒凹區(qū)
D.基牙向缺隙的相反方向傾斜,頰、舌面的主要倒凹區(qū)遠(yuǎn)離缺隙
E.基牙向頰側(cè)或舌側(cè)傾斜,或?qū)Ь€接近面,倒凹區(qū)分布廣泛可摘局部義齒是根據(jù)基牙三類不同的導(dǎo)線,設(shè)計(jì)出不同的卡環(huán)。
A.基牙牙冠的外形高點(diǎn)線
B.基牙向缺隙方向傾斜,頰、舌面的主要倒凹區(qū)靠近缺隙
C.口腔模型上硬、軟組織的倒凹區(qū)和非倒凹區(qū)
D.基牙向缺隙的相反方向傾斜,頰、舌面的主要倒凹區(qū)遠(yuǎn)離缺隙
E.基牙向頰側(cè)或舌側(cè)傾斜,或?qū)Ь€接近面,倒凹區(qū)分布廣泛可摘局部義齒是根據(jù)基牙三類不同的導(dǎo)線,設(shè)計(jì)出不同的卡環(huán)。
A.基牙牙冠的外形高點(diǎn)線
B.基牙向缺隙方向傾斜,頰、舌面的主要倒凹區(qū)靠近缺隙
C.口腔模型上硬、軟組織的倒凹區(qū)和非倒凹區(qū)
D.基牙向缺隙的相反方向傾斜,頰、舌面的主要倒凹區(qū)遠(yuǎn)離缺隙
E.基牙向頰側(cè)或舌側(cè)傾斜,或?qū)Ь€接近面,倒凹區(qū)分布廣泛可摘局部義齒是根據(jù)基牙三類不同的導(dǎo)線,設(shè)計(jì)出不同的卡環(huán)。
A.兩者相同
B.前者稍稍高于后者
C.前者稍稍低于后者
D.前者明顯高于后者
E.前者明顯低于后者
A.完全一致
B.前者稍稍小于后者
C.前者稍稍大于后者
D.前者明顯小于后者
E.前者明顯大于后者
最新試題
下頜牙列有遠(yuǎn)中游離缺失時(shí),應(yīng)考慮()
在遠(yuǎn)中錯(cuò)關(guān)系之外又有上頜切牙的唇向傾斜,Angle分類為()
后牙排列時(shí),為了有適合的縱曲線和橫曲線要()
PFM舌側(cè)瓷層厚度要求有()
當(dāng)口底淺、舌系帶附麗高時(shí)可設(shè)計(jì)的鑄造大連接體形式是()
隱形義齒材料熔化不徹底易造成()
活動(dòng)義齒基托蠟型唇頰側(cè)邊緣()
單側(cè)的近中錯(cuò),Angle錯(cuò)分類為()
下頜隆突處基托()
隱形義齒卡環(huán)蠟型過薄,除易導(dǎo)致灌注不足之外,還會(huì)導(dǎo)致()