A.在印模膏陰模的組織面和邊緣均勻地刮除2mm左右
B.灌注的模型厚度不超過(guò)10mm
C.用鉛筆畫出兩側(cè)翼上頜切跡和腭小凹后2mm的連線
D.用刀沿上述連線刻一深約1~1.5mm的溝
E.沿上述的溝向前逐漸變淺刮除石膏,最寬處約5mm
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A.頸部微向腭側(cè)傾斜
B.近中舌尖與平面接觸
C.近中頰尖離開(kāi)平面1.0mm
D.遠(yuǎn)中頰尖離開(kāi)平面1.5mm
E.遠(yuǎn)中舌尖離開(kāi)牙平面2.0mm
A.下頜骨對(duì)顱骨的位置關(guān)系
B.上下頜骨的垂直關(guān)系
C.上下頜骨的水平關(guān)系
D.記錄上頜骨的位置關(guān)系
E.頜位記錄是記錄下頜骨的位置關(guān)系
A.黏膜厚,彈性大,濕潤(rùn)度大
B.黏膜較薄,彈性大,濕潤(rùn)度大
C.黏膜厚,彈性適中,濕潤(rùn)度小
D.黏膜厚度及彈性適中,濕潤(rùn)度小
E.黏膜厚度、彈性、濕潤(rùn)度適中
A.骨質(zhì)的疏密程度
B.頜弓的大小
C.缺牙的原因
D.全身健康狀況
E.戴義齒的適合性
肯氏一類牙列缺損設(shè)計(jì)中,不能減小牙槽嵴力負(fù)擔(dān)的措施是()
A.排列瓷牙
B.減小人工牙頰舌徑
C.擴(kuò)大基托面積
D.減少人工牙數(shù)目,通??缮倥诺谝磺澳パ?br />
E.加深面溝窩形態(tài)
最新試題
哪些是頜面部檢查的內(nèi)容()
系統(tǒng)病史的內(nèi)容不包括()
最理想的印模材料是()
主訴的內(nèi)容是下列哪一項(xiàng)()
男性,42歲。缺失,雙端固定橋修復(fù)。固定橋試戴時(shí),用力戴入后,出現(xiàn)脹痛,最可能的原因是()
下列哪項(xiàng)不是修復(fù)前外科處理的內(nèi)容()
面部檢查的內(nèi)容不包括()
X線檢查的內(nèi)容包括()
模型材料包括()
口腔軟組織的處理包括()