單項(xiàng)選擇題

采用冠內(nèi)附著體的基牙牙冠齦徑高度應(yīng)（）.

A.>3mm
B.>4mm
C.>5mm
D.>6mm
E.>7mm


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1.單項(xiàng)選擇題下列關(guān)于冠內(nèi)附著體固位與穩(wěn)定的敘述，錯(cuò)誤的是（）.

A.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽(yáng)性結(jié)構(gòu)接觸面積與固位力成正比
B.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽(yáng)性結(jié)構(gòu)接觸密合程度與固位力成正比
C.義齒的穩(wěn)定性決定于栓體與栓道側(cè)壁間的密合程度
D.自制附著體陰性結(jié)構(gòu)即栓道的軸壁形態(tài)對(duì)固位力有影響
E.精密附著體在義齒制作過(guò)程中，附著體預(yù)成品，通過(guò)包埋、鑄造、研磨等工序，會(huì)影響附著體陰性結(jié)構(gòu)和陽(yáng)性結(jié)構(gòu)的密合度，影響附著體固位

2.單項(xiàng)選擇題覆蓋義齒基托與覆蓋基牙之間的間隙常規(guī)保留約（）.

A.0.5mm
B.1mm
C.1.5mm
D.2mm
E.緊密接觸，無(wú)間隙

4.單項(xiàng)選擇題覆蓋義齒短冠基牙牙冠的長(zhǎng)度為齦緣上（）.

A.3～8mm
B.3～6mm
C.3～5mm
D.3～4mm
E.齊齦或齦上3mm以內(nèi)

5.單項(xiàng)選擇題以下哪項(xiàng)不是設(shè)計(jì)覆蓋義齒暴露牙周基托的設(shè)計(jì)原則（）.

A.盡可能少覆蓋齦邊緣
B.以金屬為鄰面邊緣
C.基牙數(shù)目越多，基托暴露可越多
D.暴露牙周基托可消除基托對(duì)邊緣齦的機(jī)械刺激
E.暴露牙周基托增加了基托周圍的菌斑堆積，需加強(qiáng)清潔

6.單項(xiàng)選擇題以下有關(guān)覆蓋義齒基托的描述錯(cuò)誤的是（）.

A.盡可能少覆蓋齦邊緣
B.無(wú)牙區(qū)基托設(shè)計(jì)與傳統(tǒng)總義齒相近
C.可設(shè)計(jì)暴露牙周的基托
D.根帽和基托要作為一個(gè)形態(tài)和功能單位考慮
E.基托與基牙應(yīng)緊密接觸，使基牙能分散咬合力

7.單項(xiàng)選擇題桿附著體的桿應(yīng)位于（）.

A.牙槽嵴頂上方
B.牙槽嵴頂唇側(cè)
C.牙槽嵴頂頰側(cè)
D.不與牙槽嵴頂保持平行關(guān)系
E.緊貼牙槽嵴黏膜

8.單項(xiàng)選擇題桿卡式覆蓋義齒底部應(yīng)與黏膜間保持一以上間隙，以獲得良好的自潔作用（）.

A.2mm
B.3mm
C.1.5mm
D.2.5mm
E.桿與黏膜緊密接觸

9.單項(xiàng)選擇題單頜覆蓋義齒頜間距應(yīng)在（）以上.

A.4mm
B.6mm
C.8mm
D.10mm
E.以上均不是

10.單項(xiàng)選擇題附著體義齒的組成不包括（）.

A.人工牙
B.基托
C.卡環(huán)
D.橋體
E.附著體