A.放置附著體的基牙冠修復后，為增加附著體的強度可增寬牙冠的頰舌徑
B.冠內(nèi)附著體與其他固位體可聯(lián)合使用
C.栓道的底部即起到常規(guī)義齒中支托窩的作用
D.如義齒需采用兩個或兩個以上冠內(nèi)附著體，必須使各冠內(nèi)附著體栓道軸壁間有共同就位道
E.冠內(nèi)附著體可用于修復游離端牙列缺損的患者

A.>3mm
B.>4mm
C.>5mm
D.>6mm
E.>7mm

A.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽性結(jié)構(gòu)接觸面積與固位力成正比
B.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽性結(jié)構(gòu)接觸密合程度與固位力成正比
C.義齒的穩(wěn)定性決定于栓體與栓道側(cè)壁間的密合程度
D.自制附著體陰性結(jié)構(gòu)即栓道的軸壁形態(tài)對固位力有影響
E.精密附著體在義齒制作過程中，附著體預成品，通過包埋、鑄造、研磨等工序，會影響附著體陰性結(jié)構(gòu)和陽性結(jié)構(gòu)的密合度，影響附著體固位

A.0.5mm
B.1mm
C.1.5mm
D.2mm
E.緊密接觸，無間隙

A.2mm
B.3mm
C.4mm
D.5mm
E.6mm

A.3～8mm
B.3～6mm
C.3～5mm
D.3～4mm
E.齊齦或齦上3mm以內(nèi)

A.盡可能少覆蓋齦邊緣
B.以金屬為鄰面邊緣
C.基牙數(shù)目越多，基托暴露可越多
D.暴露牙周基托可消除基托對邊緣齦的機械刺激
E.暴露牙周基托增加了基托周圍的菌斑堆積，需加強清潔

A.盡可能少覆蓋齦邊緣
B.無牙區(qū)基托設(shè)計與傳統(tǒng)總義齒相近
C.可設(shè)計暴露牙周的基托
D.根帽和基托要作為一個形態(tài)和功能單位考慮
E.基托與基牙應緊密接觸，使基牙能分散咬合力

A.牙槽嵴頂上方
B.牙槽嵴頂唇側(cè)
C.牙槽嵴頂頰側(cè)
D.不與牙槽嵴頂保持平行關(guān)系
E.緊貼牙槽嵴黏膜

A.2mm
B.3mm
C.1.5mm
D.2.5mm
E.桿與黏膜緊密接觸