A.頻率等于自旋核在主磁場中的旋進頻率
B.持續(xù)時間等于弛豫時間
C.能使合磁矢量偏轉(zhuǎn)90度
D.能使合磁矢量偏轉(zhuǎn)180度
E.頻率連續(xù)變化
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A.射頻脈沖
B.層面選擇梯度場
C.相位編碼梯度場
D.頻率編碼梯度場
E.主磁場
A.縮短了回波的采集時間
B.單回波序列可縮小最短的TE時間
C.帶回波鏈的序列可以縮短回波間隙
D.圖像化學偽影減輕
E.信噪比提高
A.選用固有差別大的兩種組織
B.選擇高場強
C.使用磁共振對比劑
D.降低噪聲
E.減小層厚
A.FOV不變的情況下,矩陣越大,分辨率越低
B.FOV不變的情況下,矩陣越大,分辨率越高
C.FOV不變的情況下,矩陣越大,分辨率不變
D.FOV不變的情況下,矩陣越小,分辨率越高
E.FOV不變的情況下,矩陣變大變小對分辨率沒有影響
A.K空間的第一行K空間線
B.K空間中心行的K空間線
C.K空間的最后一行K空間線
D.K空間的第一列K空間線
E.K空間的最后一列K空間線
A.64MHz
B.0.36MHz
C.1MHz
D.42.58MHz
E.100MHz
A.氫質(zhì)子磁矢量都平行主磁場且方向相同
B.氫質(zhì)子磁矢量都平行主磁場且方向相反
C.氫質(zhì)子磁矢量都平行主磁場且低能級質(zhì)子與主磁場方向相同
D.氫質(zhì)子磁矢量都平行主磁場且高能級質(zhì)子與主磁場方向相同
E.氫質(zhì)子磁矢量不受主磁場影響
A.機器主磁場強度
B.磁場均勻度
C.軟件質(zhì)量
D.磁體重量
E.附屬設備
A.噪聲
B.信噪比
C.對比度
D.分辨率
E.IR選擇
A.時間飛躍法MRA(TOF-MRA.
B.相位對比MRA(PC-MRA.
C.對比增強MRA(CE-MRA.
D.相位對比MRA需靜脈注射對比劑
E.對比增強MRA需靜脈注射對比劑
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