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【A1/A2型題】在全口義齒的蠟型制作中,以下不對(duì)的是()
A.基托的蠟型厚度要比設(shè)計(jì)形態(tài)厚度略厚
B.應(yīng)將蠟型與模型之間完全封閉以免裝盒時(shí)石膏進(jìn)入組織面
C.蠟型不必高度光滑,反正開盒后還要打磨拋光
D.蠟型應(yīng)恢復(fù)原有牙齦外觀,并在人工牙根方形成適度的根面形態(tài)
E.蠟型應(yīng)根據(jù)患者的年齡特征正確恢復(fù)齦緣的形態(tài)和位置
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單項(xiàng)選擇題
【A1/A2型題】可摘局部義齒基托伸展的范圍,下列錯(cuò)誤的是()
A.應(yīng)與天然牙軸面的倒凹區(qū)輕輕接觸
B.上頜遠(yuǎn)中游離者應(yīng)伸至翼下頜切跡,遠(yuǎn)中頰角應(yīng)覆蓋上頜結(jié)節(jié)
C.下頜遠(yuǎn)中游離者應(yīng)覆蓋磨牙后墊1/3~1/2
D.缺牙區(qū)若骨質(zhì)缺損應(yīng)當(dāng)擴(kuò)大,若有骨突應(yīng)適當(dāng)縮小或作緩沖
E.缺牙多應(yīng)適當(dāng)大些,反之應(yīng)小些
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單項(xiàng)選擇題
【A1/A2型題】頜位關(guān)系的記錄指的是()
A.正確恢復(fù)頜間距離
B.正確恢復(fù)面下1/3距離
C.正確恢復(fù)面下1/3距離和髁突的生理后位
D.正確恢復(fù)面部的外形
E.糾正側(cè)向咬合和下頜前伸習(xí)慣
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