X射線熒光光譜法玻璃熔片法測(cè)量爐渣時(shí)，可以使用純氧化物配比建立工作曲線。

直讀光譜分析的品種只能是鐵基的金屬塊狀樣品。

直讀光譜分析中，電極與試樣的距離對(duì)分析結(jié)果有影響。

從ICP-AES干擾原理出發(fā)，使用標(biāo)準(zhǔn)加入法可以有效地消除光譜干擾。

ICP-AES分析中的化學(xué)干擾，比起火焰原子吸收光譜或火焰原子發(fā)射光譜分析要輕微得多，因此化學(xué)干擾在ICP發(fā)射光譜分析中可以常常忽略不計(jì)。

選用ICP-AES分析鎳鐵中砷時(shí)，使用標(biāo)準(zhǔn)加入法可以不進(jìn)行背景校正。

ICPMS微波消解溶樣時(shí)開啟微波消解罐時(shí)應(yīng)戴好手套和防護(hù)眼鏡。

金屬的直讀光譜分析使用的內(nèi)標(biāo)元素，通常為基體元素。

氧氮分析儀器長(zhǎng)期運(yùn)行和頻繁使用，儀器的各部件會(huì)發(fā)生老化和磨損，因此分析人員要定期檢查與維護(hù)儀器。

高頻感應(yīng)紅外線吸收法測(cè)定鐵合金中碳硫含量，批量分析時(shí)應(yīng)每測(cè)定一定數(shù)量樣品，插做一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品，檢查儀器的線性是否漂移。