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判斷題試件上表面缺陷形態(tài)一定時(shí)，隨著磁感應(yīng)強(qiáng)度的增加，漏磁場(chǎng)強(qiáng)度減小

1.判斷題試件上表面缺陷形態(tài)一定時(shí)，隨著磁感應(yīng)強(qiáng)度的增加，漏磁場(chǎng)強(qiáng)度也增加

2.判斷題試件的磁感應(yīng)強(qiáng)度和試件上缺陷大小都一定時(shí)，缺陷埋藏深度越深，漏磁場(chǎng)強(qiáng)度越大

3.判斷題試件的磁感應(yīng)強(qiáng)度和試件上缺陷大小都一定時(shí)，缺陷埋藏深度越深，漏磁場(chǎng)強(qiáng)度越小

4.判斷題試件內(nèi)磁感應(yīng)強(qiáng)度和表面上裂紋的自身高度都一定時(shí)，缺陷寬度越大，漏磁場(chǎng)的強(qiáng)度越大

5.判斷題試件內(nèi)磁感應(yīng)強(qiáng)度和表面上裂紋的自身高度都一定時(shí)，缺陷寬度越小，漏磁場(chǎng)的強(qiáng)度越小