A.HCl=H2SO4>CH3COOH
B.HCl>H2SO4>CH3COOH
C.H2SO4>HCl>CH3COOH
D.HCl=H2SO4=CH3COOH
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.Ca(OH)2
B.H2SO3
C.Zn(OH)2
D.KCl
A.離子鍵、共價(jià)鍵、配位鍵
B.離子鍵、共價(jià)鍵
C.離子鍵
D.共價(jià)鍵、配位鍵
已知=1.36V,Cl E ClCl° −2 2/2為 1.013³105Pa(1 大氣壓),[Cl-]=0.01mol/L時(shí)電極電位()。
A.1.27V
B.0.89V
C.1.48V
D.0.76V
A.加入NH4HS固體
B.加入HCl氣體
C.擴(kuò)大容器
D.升高溫度
含有 0.02mol/L氯離子的MgCl2溶液中,其MgCl2濃度為()。
A.0.002mol/L
B.0.04mol/L
C.0.01mol/L
D.0.005mol/L
最新試題
下列減壓蒸發(fā)的優(yōu)點(diǎn)之一是()
生蒸氣的濕度與溶液沸點(diǎn)之間的差值,稱為()
設(shè)備費(fèi)用隨蒸發(fā)器效數(shù)的增加而()
某些溶液降到飽和溫度時(shí),不會(huì)有晶體析出,要降低到的濕度,甚至低于飽和溫度很多才有晶體析出。這種低于飽和溫度的溫度差稱為()
在蒸發(fā)操作中,如果把三效改為四效,則加熱蒸汽的使用量()
回轉(zhuǎn)式薄膜蒸發(fā)器突出的優(yōu)點(diǎn)是()
()蒸發(fā)時(shí),它所用的設(shè)備和工藝條件都最為簡(jiǎn)單
在()可以通過(guò)外因引起成核過(guò)程
加晶種控制結(jié)晶,使溶液的過(guò)飽和度控制在介穩(wěn)區(qū)中,不會(huì)出現(xiàn)()現(xiàn)象
采用逆流加熱的蒸發(fā)器,溶液的濃度越來(lái)越大,溫度越來(lái)越()