紅外碳硫儀中的二氧化碳紅外池可以用于對(duì)二氧化硫的檢測(cè)。

X射線熒光光譜法玻璃熔片法測(cè)量爐渣時(shí)，可以使用純氧化物配比建立工作曲線。

原子熒光法做檢出限測(cè)試時(shí)應(yīng)對(duì)空白樣品連續(xù)測(cè)定7次。

氧氮分析儀器長(zhǎng)期運(yùn)行和頻繁使用，儀器的各部件會(huì)發(fā)生老化和磨損，因此分析人員要定期檢查與維護(hù)儀器。

ICP-AES分析中的化學(xué)干擾，比起火焰原子吸收光譜或火焰原子發(fā)射光譜分析要輕微得多，因此化學(xué)干擾在ICP發(fā)射光譜分析中可以常常忽略不計(jì)。

鋼鐵中碳分析，如果采用常規(guī)化學(xué)方法，需要隨同試料做空白試驗(yàn)。

原子熒光儀中檢測(cè)器與激發(fā)光源呈直角是為了消除激發(fā)光源對(duì)檢測(cè)原子熒光信號(hào)的干擾。

ICP矩焰形成通稱點(diǎn)火，和火焰原子吸收法一樣，都是把工作氣體點(diǎn)燃，形成高溫的火焰。

直讀光譜分析中，電極與試樣的距離對(duì)分析結(jié)果有影響。

ICPMS微波消解溶樣時(shí)開(kāi)啟微波消解罐時(shí)應(yīng)戴好手套和防護(hù)眼鏡。