以含硫酸的鍍鉻溶液為例，介紹鍍鉻的陰極過程。

陰極性鍍層起（）作用。

低濃度鍍鉻一般采用鉻酐的濃度為（）g/L 。

在酸性鍍銅中硫酸的濃度為（）g/L 。

無氰鍍銀中，硝酸銀的濃度為（）g/L 。

當電位差異較大的兩種金屬接觸時，為防止接觸腐蝕，常在接觸面采用（）。

在浸銀過程中，最適宜的溫度是（）℃。

在普通鍍鎳液中，NiSO4·7H2O 的濃度最接近（）g/L 數(shù)值。

在普通鍍鎳液中，陰極電流密度為（）A/dm2。

簡述溫度對銅及其合金氧化膜質量的影響。