下面哪種是圍繞線圈在一個均勻的導(dǎo)體中感應(yīng)出的渦流的一個性質(zhì)（）。

對某非磁性材料進(jìn)行渦流檢測時，已知μr=1，f=2kHz，ρ=2O×1O-6Ω·m，試計(jì)算滲透深度值為多少？

阻抗圖中，實(shí)線曲線是什么值不同的曲線（）。

當(dāng)激勵電壓加于一次繞組時，只有磁通量是同相的，且二次磁通量較小。當(dāng)試驗(yàn)物體插入該線圈時，將發(fā)生什么情況（）。

用××2005型×光機(jī)180KV管電壓透照Φ51*3.5的管子環(huán)焊縫，已知焊縫寬度b=10mm，焦點(diǎn)尺寸3*3，試求①滿足Ug=3Ui，橢圓開口間距g=5mm時的透照距離L1和透照偏移距離S（設(shè)Ui=0.0013V0.8，膠片離管子底面距離3mm）②若透照距離L1=800mm，則此時Ug為Ui的幾倍？

有一個變量對渦流和磁場狀態(tài)的變化發(fā)生影響，線圈的輸出信號實(shí)際上是由這個變量產(chǎn)生的。這個變量是（）。

渦流的相似定律是什么？在渦流檢測中有何作用？

什么是實(shí)際焦點(diǎn)和有效焦點(diǎn)？x射線機(jī)說明書給出的是哪個焦點(diǎn)？焦點(diǎn)尺寸如何計(jì)算？

新置的Ir192γ射線源，其活度為40Ci，現(xiàn)今時隔300天，已知，Ir192γ射線源的半衰期為75天。求該源現(xiàn)在的活度？該源新置時，對某工件進(jìn)行射線照相的曝光時間為4min，若所有條件不變，現(xiàn)今應(yīng)曝光多少分鐘？

寫出VC-S滲透探傷的工藝流程。