A.這種情況下應該將人工后牙排列為反關(guān)系
B.可將上后人工牙稍排向頰側(cè)或下后人工牙稍排向舌側(cè)以建立正常的覆關(guān)系
C.將人工后牙排列成對關(guān)系
D.可先排成對關(guān)系,再適當磨窄下后牙頰面,或?qū)⑸虾笱李a面加蠟,以建立一定的覆、覆蓋關(guān)系
E.直接將之排列成正常的覆、覆蓋關(guān)系
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A.左側(cè)下頜第三磨牙的近中舌側(cè)
B.左側(cè)下頜第三磨牙的遠中鄰面
C.左側(cè)下頜第三磨牙的遠中頰側(cè)
D.左側(cè)下頜第三磨牙近中頰側(cè)
E.左側(cè)下頜第三磨牙的遠中面
A.正型卡環(huán)
B.雙臂卡環(huán)
C.間隙卡環(huán)
D.下返卡環(huán)
E.對半卡環(huán)
A.是基牙頰舌徑寬度的1/2
B.大于基牙頰舌徑寬度的2/3
C.與基牙頰舌徑寬度相等
D.是基牙頰舌徑寬度的1/3
E.是基牙頰舌徑寬度的1/5
A.增加模型的強度
B.使支架蠟形緊密貼合于鑄模上
C.封閉模型上的微孔
D.待高溫去蠟后,留有空隙,以便鑄造時空氣的逸出
E.制作支架蠟型時,節(jié)約用料
A.30min
B.60min
C.90min
D.2h
E.15min
A.上頜第一前磨牙與第一磨牙近中之間
B.上頜尖牙部位
C.上頜第一磨牙與第二磨牙之間
D.上頜第二磨牙之后
E.上頜尖牙與第一前磨牙之間
A.距離齦緣至少3.0mm
B.距離齦緣至少4~6.0mm
C.距離齦緣至少0.5mm
D.距離齦緣至少1.0mm
E.距離齦緣越近越好
A.兩端基牙承擔的力比較均勻
B.兩端基牙的牙周膜均受到牽引力
C.將單個牙的生理性運動轉(zhuǎn)換成整體運動
D.橋體面受均勻垂直向外力時,兩端基牙的根尖部均受到壓應力
E.橋的一端受垂直向外力時,旋轉(zhuǎn)中心位于該側(cè)基牙的根中1/3交界處
有關(guān)屈應力的說法錯誤的是()
A.梁內(nèi)部各點分子都有屈應力產(chǎn)生
B.內(nèi)壓力與外張力方向相反
C.內(nèi)壓力與外張力可發(fā)生平衡失調(diào)
D.屈應力超過材料的應力極限會導致材料變形
E.表征梁內(nèi)部的分子反應
A.10~30g
B.75~100g
C.60~90g
D.30~60g
E.100~150g
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