A.漏傷
B.檢出傷損
C.有利于定量
D.B和C
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A.鍛打
B.熱處理
C.冷處理
D.熱處理和冷處理
A.碳
B.硅
C.錳
D.鐵
A.起始
B.一般
C.本質(zhì)
D.實(shí)際
A.A=(Z2-Z1)/(Z2+Z1)
B.A=2Z1/(Z2+Z1)
C.A=2Z1Z2/(Z2+Z1)
D.A=(Z2+Z1)/(Z2-Z1)
A.15mm
B.30mm
C.45mm
D.60mm
最新試題
儀器時(shí)基線比例一般在試塊上調(diào)節(jié),當(dāng)工件與試塊的聲速不同時(shí),儀器的時(shí)基線比例發(fā)生變化,影響缺陷定位精度。
對于圓柱體而言,外圓徑向檢測實(shí)心圓柱體時(shí),入射點(diǎn)處的回波聲壓實(shí)際上由于圓柱面耦合不及平面,因而其回波高于平底面,會(huì)使定量誤差增加。
發(fā)射電壓幅度也就是發(fā)射脈沖幅度,它的高低主要影響發(fā)射的超聲波能量。
無論聲波相對于缺陷是垂直入射還是斜入射,缺陷大小不同其反射波的指向性有相當(dāng)大的差異。
分辯率可使用通用探傷儀進(jìn)行測量,測試時(shí)儀器抑制置“零”或“開”位,必要時(shí)可加匹配線圈。
當(dāng)探頭的性能不佳時(shí)出現(xiàn)兩個(gè)主聲束,發(fā)現(xiàn)缺陷時(shí)很難判斷是哪個(gè)主聲束發(fā)現(xiàn)的,因此也就難以確定缺陷的實(shí)際位置。
高溫探頭前面殼體與晶片之間采用特殊釬焊,使之形成高溫耦合層。
缺陷相對反射率即缺陷反射聲壓與基準(zhǔn)反射體聲壓之比。
非金屬夾雜等缺陷的聲阻抗與鋼的聲阻抗相差很小,聲波在缺陷上的透射和吸收明顯高于白點(diǎn)和氣孔等缺陷。
水浸聚焦探頭是由外殼、阻尼塊、晶片、聲透鏡等組成。