加熱爐爐膛置換一般采用（）。

低變爐開始還原時無需進行試配氫。

氨合成塔阻力降應(yīng)控制在100KPa以內(nèi)。

正常操作時，只要床溫正常，氧含量超標(biāo)也不用調(diào)整。

增加空速可增加合成氨產(chǎn)量，因此空速越大越好。

膜分離裝置是利用各種氣體在膜中的溶解度和擴散系數(shù)不同，來達(dá)到分離。

加氫槽的作用是將有機硫轉(zhuǎn)化為無機硫。

轉(zhuǎn)化廢鍋產(chǎn)的2.5MPa的蒸汽用于轉(zhuǎn)化系統(tǒng)調(diào)節(jié)水碳比。

氮氣置換時必須單點排放，反復(fù)進行幾次，直到置換合格。

在壓縮機運行過程中活塞桿的摩擦部位溫度應(yīng)小于100℃