A.雙壁單影透照像質(zhì)計(jì)放置在膠片側(cè)
B.當(dāng)像質(zhì)計(jì)放置在膠片側(cè)時(shí),應(yīng)在像質(zhì)計(jì)上適當(dāng)位置放置鉛字“F”作為標(biāo)記,“F”標(biāo)記影象應(yīng)與像質(zhì)計(jì)的標(biāo)記同時(shí)出現(xiàn)在底片上,且應(yīng)在檢測(cè)報(bào)告中注明
C.單壁透照時(shí)允許像質(zhì)計(jì)放置在膠片側(cè),但必須進(jìn)行對(duì)比試驗(yàn)
D.當(dāng)一張膠片上同時(shí)透照多條焊接接頭時(shí),至少在第一條、中間一條和最后一條焊接接頭處各放一個(gè)置像質(zhì)計(jì)
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A.X射線照相應(yīng)盡量選用較低的管電壓
B.γ射線照相時(shí),總的曝光時(shí)間應(yīng)不小于輸送源所需時(shí)間的10倍
C.X射線照相,當(dāng)焦距為700mm時(shí),曝光量的推薦值為:AB級(jí)不小于15mA.min
D.X射線照相在采用較高管電壓時(shí),應(yīng)保證適當(dāng)?shù)钠毓饬?/p>
A.電源電壓下降超過10%時(shí),黑光燈輸出功率將大大降低
B.電源電壓波動(dòng)超過10%時(shí),對(duì)人眼損傷較大
C.電源電壓過低嚴(yán)重影響檢測(cè)靈敏度
D.電源電壓過高嚴(yán)重影響黑光燈壽命
A.試塊清洗后,放在酒精溶液中保存
B.施加滲透劑可直接進(jìn)行刷涂
C.施加滲透劑不能用噴涂方法
D.熒光滲透檢測(cè)用試塊可用于著色滲透檢測(cè)
A.滲透檢測(cè)質(zhì)量分級(jí)考慮到了缺陷性質(zhì)、數(shù)量、尺寸和密集程度
B.圓形缺陷的分級(jí)既限定了單個(gè)缺陷最大尺寸,又限定了缺陷密集程度
C.焊接接頭不允許存在橫向線性缺陷顯示
D.評(píng)定框內(nèi)同時(shí)存在線性缺陷和圓形缺陷時(shí),應(yīng)進(jìn)行綜合評(píng)級(jí)
A.干式顯像劑應(yīng)對(duì)其比重進(jìn)行經(jīng)常校驗(yàn)
B.干式顯像劑應(yīng)經(jīng)常檢查粉末凝聚
C.干式顯像劑應(yīng)經(jīng)常檢查殘留熒光
D.干式顯像劑對(duì)工件無腐蝕
最新試題
最容易發(fā)生光電效應(yīng)的射線能量為()
底片清晰度與增感屏顆粒度的關(guān)系是()
若評(píng)片燈亮度增為原來的兩倍,則底片透光度(It/I0)變?yōu)樵瓉淼模ǎ?/p>
影響較大的散射線通常來自()
底片清晰度和膠片與被照件貼緊程度的關(guān)系是()
底片的最佳黑度值與觀片燈的亮度有關(guān),觀片燈亮度改變,最佳黑度值也將改變。
物質(zhì)對(duì)輻射的吸收是隨什么而變()
二次波檢測(cè)是一種特殊的檢測(cè)工藝,以下關(guān)于二次波檢測(cè)的做敘述,哪一條是錯(cuò)誤的()
當(dāng)射線穿透任何一物體時(shí),部分被物體吸收,部分則穿透該物體,還有一部分則被構(gòu)成該物的原子內(nèi)電子向各方面散射,此散射為()
不同材料的相對(duì)吸收系數(shù)()