A.標(biāo)準(zhǔn)模體
B.均勻模體
C.替代模體
D.水模體
E.組織填充模體
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A.高LET;高RBE;高OER
B.高LET;高RBE;低OER
C.高LET;低RBE;高OER
D.高LET;低RBE;低OER
E.低LET;高RBE;高OER
A.質(zhì)子
B.快中子
C.π負(fù)介子
D.氮離子
E.氖離子
A.減少葉片間漏射線
B.減少葉片端面間的漏射
C.減小幾何半影
D.減小散射半影
E.減小穿射半影
A.檢測(cè)X射線
B.監(jiān)測(cè)電子束的劑量率
C.監(jiān)測(cè)積分劑量
D.監(jiān)測(cè)射野的平坦度
E.監(jiān)測(cè)射野的對(duì)稱性
A.1:2條件
B.1:1條件
C.2:1條件
D.3:1條件
E.1:3條件
最新試題
隨能量增大,光電效應(yīng)發(fā)生的概率迅速減小。
電離室型劑量?jī)x在每次測(cè)量前必需對(duì)氣溫和氣壓進(jìn)行修正。
對(duì)鈷60機(jī)射野的對(duì)稱性和平坦度的檢查應(yīng)每月一次。
射線能量越高,百分深度劑量隨射野面積的改變?cè)叫 ?/p>
帶電粒子與物質(zhì)的一次相互作用可以損失其能量的全部或很大一部分。
兩種不同深度處的百分深度劑量比值稱為射線質(zhì)指數(shù)或能量指數(shù)。
射野中心軸上百分深度劑量值的大小直接反應(yīng)了射線質(zhì)(能量)的高低。
LET=()Kev/μm 是高低LET 射線的分界線。
百分深度劑量受照射野面積的影響。
電磁掃描調(diào)強(qiáng)不僅具有X 射線光子的利用率高、治療時(shí)間短的優(yōu)點(diǎn),而且可實(shí)現(xiàn)電子束、質(zhì)子束的調(diào)強(qiáng)治療。