A.標(biāo)準(zhǔn)模體
B.均勻模體
C.替代模體
D.水模體
E.組織填充模體
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A.25%
B.50%
C.75%
D.90%
E.100%
A.0.5
B.0.8
C.1.0
D.1.1
E.1.2
A.1/斜率
B.1/dm
C.(1/斜率)+dm
D.(1/斜率)-dm
E.(1/dm)+斜率
A.R85/2
B.U90/50
C.L90/L50
D.P80/20
E.U80/20
A.能譜窄
B.劑量跌落更陡峭
C.較低的X線污染
D.采用類似電視光柵式掃描或螺旋式掃描的方法
E.易形成電子束不規(guī)則調(diào)強(qiáng)射野
最新試題
帶電粒子入射到物體時(shí),沒(méi)有確定的射程。
質(zhì)量保證和質(zhì)量控制的簡(jiǎn)稱分別為QA、QC。
對(duì)重離子,線性碰撞本領(lǐng)是選擇組織替代材料的首要條件。
“4R”描述的是影響腫瘤和正常組織的輻射生物效應(yīng)因素。
對(duì)射野輸出劑量的檢測(cè)頻率,加速器高于鈷60機(jī)。
低LET射線的RBE值()1.0,高LET射線的RBE值()2.0。
治療證實(shí)是治療準(zhǔn)確執(zhí)行的重要保證,包括驗(yàn)證記錄系統(tǒng),射野影像系統(tǒng),活體劑量測(cè)量系統(tǒng)。
準(zhǔn)直器所產(chǎn)生的散射線對(duì)劑量的貢獻(xiàn)主要源于二級(jí)準(zhǔn)直器。
實(shí)際患者治療時(shí),無(wú)環(huán)重定位技術(shù)的靶點(diǎn)位置總的治療精度稍劣于有環(huán)技術(shù)。
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動(dòng)能率相等。