A.1-2
B.1-3
C.1-4
D.2-3
E.2-4
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A.加速器射野較大
B.加速器需要均整板
C.鈷60需要補(bǔ)償板
D.二者都不需要組織間擋塊
E.加速器的劑量率不可調(diào)
A.同一深度處,射野中心軸上的劑量接近最高
B.在射野邊緣附近,劑量隨離軸距離增加而逐漸減少
C.由幾何半影、準(zhǔn)直器漏射和側(cè)向散射引起的射野邊緣的劑量漸變區(qū)稱為有效半影
D.射野幾何邊緣以外的半影區(qū)的劑量主要由準(zhǔn)直器散射線造成
E.準(zhǔn)直范圍外較遠(yuǎn)的劑量由機(jī)散射線引起
A.高劑量率治療的總劑量較高
B.高劑量率治療的總劑量較低
C.二者總劑量相近
D.依所用放射源而定
E.依病變部位而定
A.適形照射
B.插植照射
C.適形插植照射
D.適形組織內(nèi)照射
E.模照射
A.電子束治療技術(shù)難度小,近距離治療技術(shù)難度大
B.電子束的劑量較復(fù)雜
C.電子束治療是一次照射,近距離治療可分割照射
D.電子束治療的合并癥較多,近距離治療合并癥較少
E.電子束治療的成本較高,近距離治療的成本較低
最新試題
電磁掃描調(diào)強(qiáng)不僅具有X 射線光子的利用率高、治療時(shí)間短的優(yōu)點(diǎn),而且可實(shí)現(xiàn)電子束、質(zhì)子束的調(diào)強(qiáng)治療。
電離室型劑量?jī)x在每次測(cè)量前必需對(duì)氣溫和氣壓進(jìn)行修正。
百分深度劑量受照射野面積的影響。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時(shí),應(yīng)采用雙平面插植。
光電效應(yīng)時(shí)入射X(γ)光子的能量一部分轉(zhuǎn)化為次級(jí)電子動(dòng)能,另一部分為特征X 射線能量。
α/β不僅代表了細(xì)胞存活曲線的曲度,也代表了細(xì)胞對(duì)亞致死損傷的修復(fù)能力。
質(zhì)量保證和質(zhì)量控制的簡(jiǎn)稱分別為QA、QC。
帶電粒子入射到物體時(shí),沒有確定的射程。
源皮距越小,百分深度劑量越大。
兩種不同深度處的百分深度劑量比值稱為射線質(zhì)指數(shù)或能量指數(shù)。