A.能譜
B.吸收劑量
C.韌致輻射污染
D.特征輻射
E.射程
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A.0.1mm
B.0.5mm
C.0.7mm
D.1mm
E.1.5mm
A.按幾何原理發(fā)散
B.不變
C.逐漸展寬
D.逐漸內(nèi)斂
E.線性變化
A.能量
B.標(biāo)稱加速電壓
C.管球標(biāo)稱電壓
D.半價(jià)層
E.特征輻射能量
A.機(jī)器校準(zhǔn)
B.質(zhì)量保證
C.模體測(cè)量
D.病人治療
E.設(shè)備驗(yàn)收
A.離軸比數(shù)據(jù)是給出模體內(nèi)指定深度處所測(cè)量的垂直于中心軸的射野劑量曲線
B.結(jié)合中心軸劑量貢獻(xiàn)和離軸比數(shù)據(jù)可生成體積劑量矩陣,可以提供二位和三維劑量分布信息
C.在射野半影區(qū)等劑量曲線的劑量改變非常緩慢,并且受準(zhǔn)直器開口,焦點(diǎn)的有效大小和側(cè)向電子平衡的影響
D.兆伏級(jí)X射線的射野等劑量曲線包括了中心區(qū)、半影區(qū)和射野外三個(gè)明顯的區(qū)域
E.由于來(lái)自于準(zhǔn)直器和機(jī)頭防護(hù)部分的穿透輻射,遠(yuǎn)離射野邊緣的區(qū)域劑量通常很低
最新試題
半影為射野邊緣劑量隨離開中心軸距離增加而急劇變化的范圍。
實(shí)際患者治療時(shí),無(wú)環(huán)重定位技術(shù)的靶點(diǎn)位置總的治療精度稍劣于有環(huán)技術(shù)。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時(shí),應(yīng)采用雙平面插植。
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動(dòng)能率相等。
目前靶區(qū)劑量的精確性規(guī)定應(yīng)達(dá)到()。
檢查燈光野與射野的一致性通常用膠片法。
電離室型劑量?jī)x在每次測(cè)量前必需對(duì)氣溫和氣壓進(jìn)行修正。
對(duì)鈷60機(jī)射野的對(duì)稱性和平坦度的檢查應(yīng)每月一次。
對(duì)射野輸出劑量的檢測(cè)頻率,加速器高于鈷60機(jī)。
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。