判斷題因?yàn)樨?fù)離子一般比較大,負(fù)離子的堆積是離子晶體結(jié)構(gòu)的主要框架,正離子被看成是填充在負(fù)離子堆積形成的空隙中。
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從防腐機(jī)理而言,下列()防腐措施,利用了電化學(xué)腐蝕原理。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
帶式過(guò)濾機(jī)工作過(guò)程中,濾布出現(xiàn)打滑,一般應(yīng)采取()。
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當(dāng)回轉(zhuǎn)焙燒爐出現(xiàn)較大的局部彎曲變形時(shí),一般應(yīng)采?。ǎ?。
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裝置的事故預(yù)案由()編寫(xiě)。
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帶式過(guò)濾機(jī)濾布調(diào)偏裝置在一般在下列()條件下,難以發(fā)揮調(diào)偏作用。
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移動(dòng)室?guī)竭^(guò)濾機(jī)的工作原理主要是什么?
題型:?jiǎn)柎痤}
移動(dòng)室?guī)竭^(guò)濾機(jī)工作過(guò)程中,發(fā)現(xiàn)主氣缸漏風(fēng)時(shí),一般應(yīng)采?。ǎ?。
題型:多項(xiàng)選擇題
一般而言,新設(shè)備入庫(kù)驗(yàn)收的主要內(nèi)容有()。
題型:多項(xiàng)選擇題
移動(dòng)室?guī)竭^(guò)濾機(jī)工作過(guò)程中,真空盤(pán)出現(xiàn)不運(yùn)動(dòng)或運(yùn)動(dòng)變慢時(shí),一般應(yīng)采?。ǎ?/p>
題型:多項(xiàng)選擇題
簡(jiǎn)述帶濾機(jī)氣缸泄漏主要原因?
題型:?jiǎn)柎痤}