某女性患者,50歲,缺失,余牙正常,義齒修復(fù)設(shè)計(jì)金屬支架,上設(shè)置RPI 卡環(huán)組。基牙預(yù)備時應(yīng)制備出()
A.近中支托窩,舌側(cè)導(dǎo)平面
B.遠(yuǎn)中支托窩,舌側(cè)導(dǎo)平面
C.近中支托窩,遠(yuǎn)中導(dǎo)平面
D.遠(yuǎn)中支托窩,遠(yuǎn)中導(dǎo)平面
E.近遠(yuǎn)中支托窩
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A.石膏類包埋材
B.磷酸鹽包埋材
C.氧化硅包埋材
D.熟石膏
E.石英砂
A.會使復(fù)制的耐火模型失敗
B.會使復(fù)制的耐火模型的精度增加
C.會使復(fù)制的耐火模型的強(qiáng)度降低
D.會使復(fù)制的耐火模型的強(qiáng)度增加
E.會使復(fù)制的耐火模型變形
患者男性,56歲,缺失,可摘局部義齒修復(fù),基牙為,彎制支架,常規(guī)取模,模型觀測后填倒凹彎制支架的原則中錯誤的是()
A.不要損傷模型
B.支架各部分要與模型緊密貼合
C.嚴(yán)格按照支架的設(shè)計(jì)來制作
D.鋼絲不宜反復(fù)彎制
E.選用合適的器械
患者,女性,58歲,缺失,余留牙良好,下頜舌側(cè)牙槽骨呈斜坡狀,用整鑄支架可摘局部義齒修復(fù),舌側(cè)設(shè)計(jì)舌連接桿。當(dāng)舌側(cè)組織呈垂直時,桿與黏膜接觸形式是()
A.桿與黏膜呈接觸式
B.離開黏膜0.5mm
C.離開黏膜0.8mm
D.離開黏膜1.2mm
E.離開黏膜1.5mm
A.正插法是鑄道口設(shè)置在熔模的牙合方,依靠多個分鑄道接蠟型各個部件,主鑄道連接澆注口形成器
B.正插法的主鑄道口設(shè)置在熔模所在的模型底部
C.正插法的鑄道位于熔模后方,鑄道與熔模成垂直關(guān)系
D.正插法使用上頜全腭板
E.正插法的鑄道按順序方向?qū)我恢麒T道設(shè)置在熔模的一側(cè)
最新試題
在鑄造支架蠟型制作中后腭桿的縱切面形態(tài)應(yīng)為()
鑄造牙合支托凹底應(yīng)與基牙長軸垂直或與長軸呈()度斜坡。
屬于間接固位體的形式的是()
以下哪一項(xiàng)是彈性仿生義齒的適應(yīng)癥()
冷彎牙合支托所用鋼絲直徑為()
彎制支架時,錯誤的觀點(diǎn)是()
卡環(huán)體可防止義齒()向或()向脫位。
鑄造支架卡環(huán)由體部到臂尖應(yīng)()
屬于直接固位體的是()
制作整鑄支架鑄造時的熱源最常用的是()