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填空題空分裝置爆炸的原因一般有：液空和液氧中（）等雜質(zhì)積聚和（）引起爆炸。

1.填空題進入上塔的允許膨脹量主要與上、下塔取出的（）及上塔液體的（）有關(guān)，產(chǎn)品純度低（）。

2.填空題低壓流程以卡皮查循環(huán)（）為依據(jù)。全低壓流程因為（）等諸多優(yōu)點，被廣泛推廣和應(yīng)用。

3.填空題型號為KDON-10000／11000。制冷系統(tǒng)是以（）為基礎(chǔ)的全低壓循環(huán)。采用高效（），膨脹工質(zhì)為（），利用（）回收部分膨脹功。

4.填空題制氧機除要達到的產(chǎn)品產(chǎn)量及純度外，還有（）（）（）（）（）（）指標(biāo)。

5.填空題（）是指塔內(nèi)下流液體量與上升蒸汽量之比。